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柔性電磁屏蔽聚酰亞胺/炭黑多孔材料

日期:2025-09-18 10:28
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摘要:柔性電磁屏蔽聚酰亞胺薄膜/炭黑多孔材料

柔性電磁屏蔽聚酰亞胺薄膜/炭黑多孔材料


需要增透減反技術(shù)可以聯(lián)系我們上海工廠(chǎng)18917106313

上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專(zhuān)業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件的高科技企業(yè),公司2005年成立在上海閔行零號(hào)灣創(chuàng)業(yè)園區(qū),專(zhuān)業(yè)的光電鍍膜公司,技術(shù)背景依托中國(guó)科學(xué)院,卷柔產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工;光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡,平板顯示,安防監(jiān)控等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)和生產(chǎn),為全球客戶(hù)提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。

關(guān)鍵詞:電磁屏蔽;聚酰亞胺;復(fù)合薄膜;炭黑;多孔材料;加入量;熱壓法;力學(xué)性能;EMI-SE

隨著高頻高速信息技術(shù)及可穿戴設(shè)備的發(fā)展,高性能電磁屏蔽材料的需求日益迫切,并面臨越來(lái)越高的性能要求。作為常用的電磁屏蔽材料,金屬具有高的導(dǎo)電性和良好電磁干擾屏蔽(EMI)效果。隨著輕質(zhì)、高耐用和易成型等應(yīng)用需求的增加,EMI金屬材料正逐漸被聚合物復(fù)合材料所取代,但高的填料加入量在賦予聚合物復(fù)合材料良好EMI效果的同時(shí),也會(huì)對(duì)其機(jī)械性能等造成嚴(yán)重影響。

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近期,研究人員采用一種簡(jiǎn)單易行的熱壓方法,將*初易碎的高填料(炭黑)含量的聚酰亞胺(PI)海綿狀脆性復(fù)合薄膜,成功轉(zhuǎn)變成為具有雙倍拉伸強(qiáng)度的高柔性電磁干擾屏蔽薄膜,解決了高填料加入量時(shí)難以實(shí)現(xiàn)良好機(jī)械耐久性的難題。

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(a) PIS, (b) PIS without carbon fillers, (c) PIS-CB 20wt%

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HPPIS-CB 20wt%

實(shí)驗(yàn)首先以PIPMDA/ODA)作為基體、炭黑(N326)作為填料,通過(guò)非溶劑誘導(dǎo)相分離法制備了不同炭黑含量的多孔復(fù)合薄膜(PIS-CB),炭黑的*大含量接近50wt%,遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)了填料的加入量閾值。由此制備的PIS-CB海綿狀復(fù)合薄膜表現(xiàn)出高度脆性,無(wú)法用作電磁干擾屏蔽薄膜。

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為此,研究人員對(duì)上述多孔復(fù)合薄膜進(jìn)行熱壓處理,實(shí)驗(yàn)條件為250℃400MPa處理30min,熱壓后的多孔復(fù)合薄膜(HPPIS-CB)均恢復(fù)了與純PI薄膜相當(dāng)?shù)娜嵝裕⑶蚁嚓P(guān)電磁屏蔽和機(jī)械性能均顯著提高。

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 (a) PIS-CB 20wt% before hot-pressing, (b) PIS-CB 20wt% after hot-pressing in 400MPa, (C) PIS-CB 

20wt% after hot-pressing in 600MPa, (d) flexiblity of HPPIS-CB 50wt%.
采用熱壓方法后,不同炭黑加入量時(shí)HPPIS-CB多孔復(fù)合薄膜的拉伸強(qiáng)度均呈不同幅度的增大。特別是加入量10wt%HPPIS-CB復(fù)合薄膜,其拉伸強(qiáng)度達(dá)到297.45 MPa,熱壓后的提高幅度*大(約213%)。

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此外,熱壓后HPPIS-CB復(fù)合薄膜的EMI-SE也有所提高,當(dāng)加入量40wt%時(shí)的EMI-SE*高。厚度1.0mm下,HPPIS-CB多孔復(fù)合薄膜在800MHz~12GHz范圍內(nèi)可達(dá)35dB,這與采用碳納米管、碳纖維或其他昂貴碳基填料相似的結(jié)果。

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該類(lèi)制備柔性電磁屏蔽聚合物復(fù)合材料的方法,突破了聚合物基體中填料加入量的*大閾值限制,解決了高填料加入量時(shí)聚合物復(fù)合材料的脆性問(wèn)題,為復(fù)合材料的研究與制備提供了新的思路,在航空航天和無(wú)線(xiàn)通信領(lǐng)域具有良好應(yīng)用潛力。

 

研究成果發(fā)表在國(guó)際學(xué)術(shù)期刊 Composites Part B: Engineering 2021221109010),**作者和通訊作者分別是韓國(guó)延世大學(xué)的J. KimG. KimH. Han

 



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上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專(zhuān)業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件的高科技企業(yè),公司2005年成立在上海閔行零號(hào)灣創(chuàng)業(yè)園區(qū),專(zhuān)業(yè)的光電鍍膜公司,技術(shù)背景依托中國(guó)科學(xué)院,卷柔產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工;光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡,平板顯示,安防監(jiān)控等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)和生產(chǎn),為全球客戶(hù)提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。

    采用德國(guó)薄膜制備工藝,形成了一套具有嚴(yán)格工藝標(biāo)準(zhǔn)的閉環(huán)式流程技術(shù)制備體系,能夠制備各種超高性能光學(xué)薄膜,包括紅外薄膜、增透膜,ARcoating,激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線(xiàn)薄膜,應(yīng)用領(lǐng)域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫(yī)用激光器、光學(xué)科研,紅外制導(dǎo)、面部識(shí)別、VR/AR應(yīng)用,博物館,低反射櫥窗玻璃,畫(huà)框,工業(yè)燈具照明,廣告機(jī),點(diǎn)餐機(jī),電子白板,安防監(jiān)控等。
    卷柔新技術(shù)擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的全自動(dòng)生產(chǎn)線(xiàn)【sol-gel溶膠凝膠法鍍膜線(xiàn)】,這條生產(chǎn)線(xiàn)能夠生產(chǎn)全球先進(jìn)的減反射玻璃。鍍膜版面可達(dá)到2440*3660mm,玻璃厚度從0.3mm到12mm都可以,另外針對(duì)PC,PMMA方面的增透膜也具有量產(chǎn)生產(chǎn)能力。ARcoating減反膜基本接近無(wú)色,色彩還原性好,并且可以避免了磁控濺射的缺點(diǎn),鍍完增透膜后玻璃可以做熱彎處理和鋼化處理以及DIP打印處理。這個(gè)難度和具有很好的應(yīng)用性,新意突出,實(shí)用性突出,濕法鍍膜在價(jià)格方面也均優(yōu)于真空磁控的干法。


  卷柔減反射(AR)玻璃的特點(diǎn):高透,膜層無(wú)色,膜硬度高,抗老化性強(qiáng)(耐候性強(qiáng)于玻璃),玻璃長(zhǎng)期使用存放不發(fā)霉,且有一定的自潔效果.AR增透減反膜玻璃產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于**文博展示、低反射幕墻、廣告機(jī)玻璃、節(jié)能燈具蓋板玻璃、液晶顯示器保護(hù)玻璃等多行業(yè)。
    我們的愿景:卷柔讓光學(xué)更具價(jià)值!
    我們的使命:有光的地方就有卷柔新技術(shù)!
    我們的目標(biāo):以高質(zhì)量的產(chǎn)品,優(yōu)惠的價(jià)格,貼心的服務(wù),為客戶(hù)提供優(yōu)良的解決方案。
    上海卷柔科技以現(xiàn)代鍍膜技術(shù)為核心驅(qū)動(dòng)力,通過(guò)鍍膜設(shè)備、鍍膜加工、光學(xué)鍍膜產(chǎn)品服務(wù)于客戶(hù),努力為客戶(hù)創(chuàng)造新的利潤(rùn)空間和競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì),為中國(guó)的民族制造業(yè)的發(fā)展貢獻(xiàn)力量。