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溶膠凝膠法制備光伏增透膜的研究

日期:2025-09-18 12:58
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摘要:溶膠凝膠法制備光伏增透膜的研究

溶膠凝膠法制備光伏增透膜的研究


需要增透減反技術(shù)可以聯(lián)系我們上海工廠18917106313

上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學儀器及其零配件的高科技企業(yè),公司2005年成立在上海閔行零號灣創(chuàng)業(yè)園區(qū),專業(yè)的光電鍍膜公司,技術(shù)背景依托中國科學院,卷柔產(chǎn)品主要涉及光學儀器及其零配件的研發(fā)和加工;光學透鏡、反射鏡、棱鏡,平板顯示,安防監(jiān)控等光學鍍膜產(chǎn)品的開發(fā)和生產(chǎn),為全球客戶提供上等的產(chǎn)品和服務。

摘要

本研究針對光伏器件光反射損失問題,系統(tǒng)探討溶膠凝膠法在光伏增透膜制備中的應用。通過優(yōu)化溶膠配比、涂覆工藝及熱處理條件,成功制備出低反射率、高透光率的 SiO?/TiO?復合增透膜。實驗表明,當溶膠濃度為 0.3mol/L、涂覆 層、熱處理溫度 350℃時,增透膜在可見光波段平均反射率低于 5%,透光率提升至 95% 以上,顯著提高光伏器件光電轉(zhuǎn)換效率。本研究為溶膠凝膠法在光伏領(lǐng)域的規(guī)?;瘧锰峁┝死碚撆c工藝依據(jù)。

圖片


關(guān)鍵詞

溶膠凝膠法;光伏增透膜;SiO?/TiO?復合膜;光學性能;工藝優(yōu)化

一、引言

光伏器件的光電轉(zhuǎn)換效率受限于光在表面的反射損失,傳統(tǒng)增透膜技術(shù)(如化學氣相沉積)存在設(shè)備復雜、成本高等問題。溶膠凝膠法以其工藝簡單、成本低廉、可大面積涂覆等優(yōu)勢,成為制備光伏增透膜的理想方法。該方法通過溶膠的水解 - 縮聚反應形成納米級凝膠網(wǎng)絡(luò),經(jīng)干燥后可形成具有多孔結(jié)構(gòu)的增透膜,其折射率和孔隙率可通過工藝參數(shù)**調(diào)控。本文以 SiO?和 TiO?為主要材料,研究溶膠凝膠法制備光伏增透膜的關(guān)鍵工藝及其對光學性能的影響。

二、溶膠凝膠法制備增透膜的原理與工藝

2.1 基本原理

溶膠凝膠法的核心是前驅(qū)體的水解與縮聚反應。以正硅酸乙酯(TEOS)和鈦酸四異丙酯(TIP)為前驅(qū)體,在酸性或堿性催化劑作用下,發(fā)生如下反應:

?水解反應 \text{Si(OC}_2\text{H}_5)_4 + 2\text{H}_2\text{O} \rightarrow \text{Si(OH)}_4 + 4\text{C}_2\text{H}_5\text{OH}  \text{Ti(OC}_3\text{H}_7)_4 + 2\text{H}_2\text{O} \rightarrow \text{Ti(OH)}_4 + 4\text{C}_3\text{H}_7\text{OH} 

?縮聚反應 \text{Si(OH)}_4 + \text{Si(OH)}_4 \rightarrow (\text{HO})_3\text{Si-O-Si(OH)}_3 + \text{H}_2\text{O} 

形成的溶膠經(jīng)涂覆、干燥后,溶劑揮發(fā)留下納米級多孔網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu),通過調(diào)整孔隙率可實現(xiàn)折射率梯度調(diào)控,從而減少光反射。

2.2 實驗材料與設(shè)備

?材料TEOS、TIP、無水乙醇、鹽酸(催化劑)、去離子水。

?設(shè)備:磁力攪拌器、旋轉(zhuǎn)涂膜機、馬弗爐、紫外可見分光光度計(UV-Vis)、掃描電子顯微鏡(SEM)。

2.3 制備流程

1.溶膠配制

 TEOS 與 TIP 按體積比 3:1 混合,加入乙醇稀釋至總濃度 0.1-0.5mol/L,滴加鹽酸(pH=2-3)催化水解,攪拌 小時形成透明溶膠。

2.基底預處理

單晶硅片經(jīng)丙酮、乙醇超聲清洗后,用去離子水沖洗并干燥。

3.涂覆工藝

采用旋轉(zhuǎn)涂膜法(轉(zhuǎn)速 2000-4000rpm,時間 30s)或浸漬提拉法(速度 5-20cm/min)將溶膠均勻涂覆于基底表面。

4.干燥與熱處理

室溫干燥 24 小時后,在 200-500℃馬弗爐中熱處理 小時,去除有機物并固化膜層。

三、工藝參數(shù)對增透膜性能的影響

3.1 溶膠濃度對膜層結(jié)構(gòu)的影響

?低濃度(0.1mol/L:溶膠粘度低,涂覆后膜層過薄(<50nm),孔隙率高,折射率接近空氣(n≈1.2),但機械強度差,易脫落。

?中濃度(0.3mol/L:形成厚度約 100-150nm 的均勻膜層,孔隙率適中(30%-40%),折射率 n≈1.45,滿足增透膜理想折射率( n=\sqrt{n_0 \cdot n_s} \approx 1.5 , n_s 為硅基底折射率 3.8)。

?高濃度(0.5mol/L:溶膠粘度過高,涂覆時易產(chǎn)生裂紋,膜層致密性增加,折射率升高至 n≈1.6,反射率回升(圖 1)。

 1 不同溶膠濃度下增透膜的反射率曲線

3.2 涂覆次數(shù)對膜層厚度的影響

?單次涂覆:膜厚約 50nm,反射率降低至 8%-10%,但未達*佳增透效果。

?三次涂覆:膜厚累積至 150nm(接近 1/4 波長,λ=600nm),反射率降至 5% 以下,透光率提升至 95% 以上(圖 2)。

?多次涂覆(>3 次):膜厚超過 200nm,可能引發(fā)光干涉相長,反射率反彈。

 2 涂覆次數(shù)與透光率的關(guān)系

3.3 熱處理溫度對膜層性能的影響

?低溫(200℃:有機物未完全分解,膜層含殘留乙醇,結(jié)構(gòu)疏松,耐磨性差。

?中溫(350℃:有機物完全揮發(fā),形成多孔 SiO?/TiO?復合結(jié)構(gòu),膜層致密性與附著力*佳(SEM 圖顯示孔隙直徑 20-50nm,圖 3)。

?高溫(500℃:納米顆粒燒結(jié)團聚,孔隙率下降,折射率升高至 1.7,反射率增加至 7% 以上。

 3 350℃熱處理后增透膜的 SEM 圖像



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