光學鍍膜是什么

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上海卷柔新技術光電有限公司是一家專業研發生產光學儀器及其零配件的高科技企業，公司2005年成立在上海閔行零號灣創業園區，專業的光電鍍膜公司，技術背景依托中國科學院，卷柔產品主要涉及光學儀器及其零配件的研發和加工；光學透鏡、反射鏡、棱鏡，平板顯示，安防監控等光學鍍膜產品的開發和生產，為全球客戶提供上等的產品和服務。

干涉是很多光學元件使用的基礎，這里主要講鍍膜。在表面鍍一層薄膜可觀察到兩次反射。對于四分之一波光學厚度，兩反射光波具有半波偏移，導致相消干擾并降低反射。簡潔的四分之一波規則是設計光學薄膜的有力工具，讓我們理解反射率隨光學厚度的振蕩，從而制備簡單的增透膜。通過稍微復雜的設計還能制備特殊增透膜，比如在單波長實現接近零反射率的V形膜，通過多層膜設計還可以把V形曲線拉平，實現波長范圍更寬的薄膜。

(減反)增透膜

高反膜

濾光和分束膜

光學薄膜的定義

光學薄膜的定義是∶涉及光在傳播路徑過程中,附著在光學器件表面的厚度薄而均勻的介質膜層,通過分層介質膜層時的反射、透(折)射和偏振等特性,以達到我們想要的在某一或是多個波段范圍內的光的全部透過或光的全部反射或偏振分離等各特殊形態的光.

光學薄膜系指在光學元件或獨立基板上,制鍍上或涂布一層或多層介電質膜或金屬膜或這兩類膜的組合,以改變光波之傳遞特性,包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變.故經由適當設計可以調變不同波段元件表面之穿透率及反射率,亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性.

一般來說,光學薄膜的生產方式主要分為干法和濕法的生產工藝.所謂的干式就是沒有液體出現在整個加工過程中,例如真空蒸鍍是在一真空環境中,以電能加熱固體原物料,經升華成氣體后附著在一個固體基材的表面上,完成涂布加工.日常生活中所看到裝飾用的金色、銀色或具金屬質感的包裝膜,就是以干式涂布方式制造的產品.但是在實際量產的考慮下,干式涂布運用的范圍小于濕式涂布.濕式涂布一般的做法是把具有各種功能的成分混合成液態涂料,以不同的加工方式涂布在基材上,然后使液態涂料干燥固化做成產品.

什么是鍍膜？

鍍膜是半導體及光學工業中*為重要的工藝之一。這里會總體歸納各類鍍膜/薄膜工藝，從原理上了解這些工藝的異同。

簡介

鍍膜指在基材上形成從數納米到數微米的材料層，材料可以是金屬材料、半導體材料、以及氧化物氟化物等化合物材料。鍍膜的工藝可以*簡略的分為化學工藝及物理工藝：

化學方法

通常是液態或者氣態的前體材料經過在固體表面的化學反應，沉積一層固體材料層。以下常見的鍍膜工藝都是屬于化學工藝：

◆ 電鍍(Electroplating)：利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝

◆ 化學溶液沉積 Chemical solution deposition (CSD)：是利用一種合適的還原劑使鍍液中的金屬離子還原并沉積在基體表面上的化學還原過程。與電化學沉積不同，化學沉積不需要整流電源和陽極。Sol-Gel技術就是一種化學溶液沉積方法。

◆ 旋轉涂覆法 Spin-coating：即在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。通常也需要涂膠后的熱處理來使膠狀涂膜晶體化。對于高分子聚合物Polymer的薄膜涂覆比較有效，廣泛應用于半導體的光感掩膜涂覆。

◆ 化學氣相沉積 Chemical vapor deposition(CVD)：把一種或幾種含有構成薄膜元素的化合物、單質氣體通入放置有基材的反應室，借助空間氣相化學反應在基體表面上沉積固態薄膜的工藝技術。

◆ 等離子增強化學氣相沉積 Plasma enhanced Chemical vapor deposition (PECVD)：是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。因為利用了等離子的活性來促進化學反應，PECVD可以在較低的溫度下實現。

物理方法

使用機械的、機電的、熱力的方法來產生形成固態薄膜。通常是物**相沉積的方法Physical vapor deposition(PVD)。以下是常見的物理鍍膜工藝：

◆ 熱蒸發鍍膜(Thermal evaporation)：將薄膜物質加熱蒸發，在比蒸發溫度低的基本表面上凝結成固體形成薄膜的方法。

→電子束蒸發鍍膜 (Electron beam evaporation); 通過電子束轟擊鍍膜材料加熱并使材料蒸發，并沉積在基板上。優點是加熱集中，并能達到很高的溫度來處理高熔點的材料。

→離子束輔助沉積 (Ion assisted deposition IAD); 類似于E-beam evaporation工藝，改善的地方是用離子束來導向及加速氣化的鍍膜材料，并且離子束在材料沉積的過程中幫助沉積以及使沉積膜緊密化，就像小小的錘子一樣。

→電阻加熱蒸發鍍膜(Resistive heating evaporation)；通過高電流電阻加熱使鍍膜材料氣化，不適用于高過1600度熔點的材料

→分子束外延Molecular beam epitaxy (MBE)

◆ 濺射鍍膜(Sputtering)：高能量的原子、分子與固體在碰撞后，原子會被趕出固體表面。這種現象稱為濺射( Sputter )或者是濺鍍( Sputtering )，被碰撞的固體稱為靶材( Target )。通過高能量的原子、分子會反復碰撞，靶材會被加熱，為了防止溶解，會從背面進行水冷。

→傳統濺射，通過高電壓使靶材周圍的氬氣離子化，并通過高電位差獲得加速，并轟擊靶材表面，轟出表面的靶材原子積聚在基板上，形成薄膜。

→射頻濺射 RF sputtering，射頻濺射是利用射頻放電等離子體中的正離子或電子轟擊靶材、濺射出靶材原子從而沉積在接地的基板表面的技術。相比傳統濺射的優點是不會產生正電荷積聚，降低電位差，從而終止濺射。

→離子束濺射 Ion beam sputtering (IBS)，來自于獨立離子槍的高能量離子束轟擊靶材表面，濺鍍好的材料沉積在基板上。其間形成著的鍍膜化學計量和靶材一模一樣。

◆ 脈沖激光沉積 (Pulsed laser deposition PLD)：是一種利用聚焦后高功率脈沖激光對真空中靶材進行轟擊，由于激光能量極高，使靶材氣化形成等離子體Plasma plume，然后氣化的物質沉淀在襯底上形成薄膜。

關于我們

上海卷柔新技術光電有限公司是一家專業研發生產光學儀器及其零配件的高科技企業，公司2005年成立在上海閔行零號灣創業園區，專業的光電鍍膜公司，技術背景依托中國科學院，卷柔產品主要涉及光學儀器及其零配件的研發和加工；光學透鏡、反射鏡、棱鏡，平板顯示，安防監控等光學鍍膜產品的開發和生產，為全球客戶提供上等的產品和服務。

    采用德國薄膜制備工藝，形成了一套具有嚴格工藝標準的閉環式流程技術制備體系，能夠制備各種超高性能光學薄膜，包括紅外薄膜、增透膜，ARcoating,激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線薄膜，應用領域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫用激光器、光學科研，紅外制導、面部識別、VR/AR應用,博物館，低反射櫥窗玻璃，畫框，工業燈具照明，廣告機，點餐機，電子白板，安防監控等。
    卷柔新技術擁有自主知識產權的全自動生產線【sol-gel溶膠凝膠法鍍膜線】，這條生產線能夠生產全球先進的減反射玻璃。鍍膜版面可達到2440*3660mm，玻璃厚度從0.3mm到12mm都可以,另外針對PC,PMMA方面的增透膜也具有量產生產能力。ARcoating減反膜基本接近無色,色彩還原性好，并且可以避免了磁控濺射的缺點，鍍完增透膜后玻璃可以做熱彎處理和鋼化處理以及DIP打印處理。這個難度和具有很好的應用性，新意突出，實用性突出，濕法鍍膜在價格方面也均優于真空磁控的干法。

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上海卷柔新技術光電有限公司是一家專業研發生產光學儀器及其零配件的高科技企業，公司2005年成立在上海閔行零號灣創業園區，專業的光電鍍膜公司，技術背景依托中國科學院，卷柔產品主要涉及光學儀器及其零配件的研發和加工；光學透鏡、反射鏡、棱鏡，平板顯示，安防監控等光學鍍膜產品的開發和生產，為全球客戶提供上等的產品和服務。

  卷柔減反射(AR)玻璃的特點:高透,膜層無色,膜硬度高,抗老化性強(耐候性強于玻璃),玻璃長期使用存放不發霉,且有一定的自潔效果.AR增透減反膜玻璃產品廣泛應用于**文博展示、低反射幕墻、廣告機玻璃、節能燈具蓋板玻璃、液晶顯示器保護玻璃等多行業。
    我們的愿景：卷柔讓光學更具價值！
    我們的使命：有光的地方就有卷柔新技術！
    我們的目標：以高質量的產品，優惠的價格,貼心的服務，為客戶提供優良的解決方案。
    上海卷柔科技以現代鍍膜技術為核心驅動力，通過鍍膜設備、鍍膜加工、光學鍍膜產品服務于客戶，努力為客戶創造新的利潤空間和競爭優勢，為中國的民族制造業的發展貢獻力量。