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一種鏡片分層鍍膜方法與流程

日期:2025-09-19 13:23
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摘要:一種鏡片分層鍍膜方法與流程

一種鏡片分層鍍膜方法與流程


技術介紹
現有的鏡片鍍膜工藝中,一般是在鏡片的凸面上鍍減反射膜層(AR膜),再在減反射膜層上蒸鍍一層防水膜層,減反射膜層一般由氧化硅或氧化鋯等組成。但是,使用現有技術的鍍膜工藝對現有的鏡片進行鍍膜,鍍膜后的膜層與鏡片之間的附著力普遍偏低(傳統的檢驗方式:使用3M膠撕拉),使用3M膠撕拉1次即整個膜層脫離鏡片。同時,為了更好的防藍光,本磚利技術使用防藍光效果好的ZEONEX350R(日本瑞翁產品系列)光學級塑膠材料進行注塑成型鏡片,但是該系列產品中加入了較多的添加劑,傳統的成型和鍍膜方法中,添加劑容易在鏡片表面釋放造成后續鍍膜附著力下降。
技術實現思路
本磚利技術提供一種光學塑膠鏡片的鍍膜方法,解決了現有技術中AR膜層附著力低的技術問題,同時也優化了鏡片的光學性能。為了解決上述技術問題,本磚利技術所采取的技術方案為:一種光學塑膠鏡片的鍍膜方法,包括以下步驟:A、光學塑膠材料通過注塑機注塑成型得到鏡片基體;B、將該鏡片基體放入真空鍍膜機的鍍膜腔內,抽真空并預加熱,使得鍍膜腔內真空度和溫度滿足一定條件;C、先后交替蒸鍍Ti3O5減反射膜層和SiO2減反射膜層,蒸鍍Ti3O5減反射膜層:打開離子源中氬氣閥門通入氬氣,真空度調整至1.3-2.0*10-2Pa,打開電子槍對Ti3O5加熱使其蒸發,同時打開離子源中氧氣閥門通入30-50sccm流量的氧氣;蒸鍍SiO2減反射膜層:Ti3O5減反射膜層鍍膜完成后,關閉氧氣和電子槍,打開離子源中氬氣閥門通入氬氣,真空度調整至1...

【技術保護點】
1.一種光學塑膠鏡片的鍍膜方法,其特征在于包括以下步驟:A、光學塑膠材料通過注塑機注塑成型得到鏡片基體;B、將該鏡片基體放入真空鍍膜機的鍍膜腔內,抽真空并預加熱,使得鍍膜腔內真空度和溫度滿足一定條件;C、先后交替蒸鍍Ti3O5減反射膜層和SiO2減反射膜層,蒸鍍Ti3O5減反射膜層:打開離子源中氬氣閥門通入氬氣,真空度調整至1.3?2.0*10?2Pa,打開電子槍對Ti3O5加熱使其蒸發,同時打開離子源中氧氣閥門通入30?50sccm流量的氧氣;蒸鍍SiO2減反射膜層:Ti3O5減反射膜層鍍膜完成后,關閉氧氣和電子槍,打開離子源中氬氣閥門通入氬氣,真空度調整至1.0?1.3*10?4Pa,之后打開電子槍對SiO2加熱并使其蒸發;D、完成步驟C后,在蒸鍍有減反射膜層的鏡片基體上再蒸鍍一層防水膜層。

【技術特征摘要】
1.一種光學塑膠鏡片的鍍膜方法,其特征在于包括以下步驟:A、光學塑膠材料通過注塑機注塑成型得到鏡片基體;B、將該鏡片基體放入真空鍍膜機的鍍膜腔內,抽真空并預加熱,使得鍍膜腔內真空度和溫度滿足一定條件;C、先后交替蒸鍍Ti3O5減反射膜層和SiO2減反射膜層,蒸鍍Ti3O5減反射膜層:打開離子源中氬氣閥門通入氬氣,真空度調整至1.3-2.0*10-2Pa,打開電子槍對Ti3O5加熱使其蒸發,同時打開離子源中氧氣閥門通入30-50sccm流量的氧氣;蒸鍍SiO2減反射膜層:Ti3O5減反射膜層鍍膜完成后,關閉氧氣和電子槍,打開離子源中氬氣閥門通入氬氣,真空度調整至1.0-1.3*10-4Pa,之后打開電子槍對SiO2加熱并使其蒸發;D、完成步驟C后,在蒸鍍有減反射膜層的鏡片基體上再蒸鍍一層防水膜層。2.根據權利要求1所述的一種光學塑膠鏡片的鍍膜方法,其特征在于:在步驟B之后,開始步驟C之前,打開離子源通入氧氣對鏡片基體進行活化處理,活化處理時間為120-200秒。3.根據權利要求1所述的一種光學塑膠鏡片的鍍膜方法,其特征在于:在步驟A之后,開始步驟B之前,鏡片基體放在烘箱內烘烤2-3小時,溫度設定在75-85度之間。4.根據權利要求1所述的一種光學塑膠鏡片的鍍膜方法,其特征在于所述步驟A包括:將光學塑膠材料放入干燥機或除濕干燥機內進行烘烤;光學塑膠材料烘烤后放入注塑機進行注塑成型,注塑模具的溫度設定在120-130度之間,螺桿背壓設定在80-100kg之間。5.根據權利要求1所述的一種光學塑膠鏡片的鍍膜方法,

上海卷柔新技術光電有限公司是一家專業研發生產光學儀器及其零配件?的高科技企業,公司成立2005年,專業的光電鍍膜公司,公司產品主要涉及光學儀器及其零配件的研發和加工;光學透鏡、反射鏡、棱鏡等光學鍍膜產品的開發和生產,為全球客戶提供上等的產品和服務。

采用德國薄膜制備工藝,形成了一套具有嚴格工藝標準的閉環式流程技術制備體系,能夠制備各種超高性能光學薄膜,包括紅外薄膜增透膜,ARcoating, 激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線薄膜,應用領域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫用激光器、紅外制導、面部識別、VR/AR應用,博物館,低反射櫥窗玻璃,畫框等。